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高纯特种气体用途汇总

2017-02-25       848

名称
纯度
用途
氮气-N2
>99.999%
用作标准气体、在线仪表标准气、校正气、零点气、平衡气;用于半导体器件制备工艺中外延、扩散、化学气相淀积、离子注入、等离子干刻、光刻,退火 搭接、烧结等工序;电器、食品包装,化学等工业也要用氮气。
氧气-O2
>99.995%
用作标准气体、在线仪表标准气体、校正气、零点气;还可用于医疗气,在半导体器件制备工艺中用于热氧化,扩散、化学气相淀积、等离子干刻等工序,以及用于光导纤维的制备。
氩气-Ar>99.999%
用作标准气体、零点气、平衡气;甩于半导体器件制备工艺中晶体生长、热氧化、外延,扩散、氮化,喷射,等离子干刻、载流、退火搭接,烧结等工序;特种混合气与工业混合气也使用氩。
氢气-H2
> 99.999%
用作标准气体、零点气、平衡气、校正气、在线仪表标准气; 在半导体器件制备工艺中用于晶体生长,热氧化,外延、扩散、多晶硅、钨化、离子注入、载流、烧结等工序;在化学,冶金等工业中也有用
氦气-He
>99.999%
用作标准气体、零点气 平衡气,校正气、医疗气、用于半导体器件错备工艺中晶体生长,等离子干刻 载流等工序;另外,特种混合气与工业混台气也常用.
氯气-Cl2
>99.86 %
用作标准气体,校正气,用于半导体器件制备工艺中晶体生长、等离子干刻、热氧化等工序;另外,用于水净化,纸浆与纺织品的漂白、工业废品、污水、 游泳池的卫生处理,制备许多化学产品。
氟气-F2
>98%
用于半导体器件制备工艺中等离子干刻;另外,用于制备六氟化铀、六氟化硫、三氟化硼和金属氟化物等。
氨气-NH3
>99.995%
用作标准气体(www.51qiti.com)、校正气、在线仪表标准气;用于半导体器件制备工艺中氮化工序,另外,用于制冷、化肥,石油、采矿、橡胶等工业。
氯化氢-HCI
>99.995%
用作标准气体,用于半导休器件制备工艺中外延、热氧化、扩散等工序;另外,用于橡胶氯氢化反应中的化学中间体、生产乙烯基和烷基氯化物时起氧氯化作用。
一氧化氮-N0
>99%
用作标准气体,校正气;用于半导体器件制备工艺中化学气相淀积工序,制备监控大气污染的标准混合气。
二氧化碳-CO2
>99.99%
用作标准气体、在线仪表标准气体,校正气;用于半导体器件制备工艺中氧化,载流工序,另外,还用于特种混合气、发电,气体置换处理、杀菌气体稀释剂、灭火剂、食品冷冻、金属冷处理 ,饮料充气,烟雾喷射剂,食品贮存保护气等。
氧化亚氮-N2O(即笑气)
>99.999%
用作标准气体、医疗气; 用于半导体器件制备工艺中化学气相淀积、医用麻醉剂、烟雾喷射剂、真空和带压检漏,红外光谱分析仪等也用。
硫化氢-H2S
>99.999%
用作标准气体,校正气,用于半导体器件制备工艺中等离子干刻,化学工业中用于制备硫化物,如硫化钠, 硫化有机物;用作溶剂;实验定量分析用。

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